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蚀刻机中碱性CuCl2腐蚀原理及组成

是是碱性的(de)的(de)蚀(shi)刻(ke)(ke)液基本可(ke)选(xuan)择(ze)于层层印(yin)刷厂印(yin)刷板的(de)表(biao)面层集成运放几何体(ti)生(sheng)产(chan)具体(ti)办(ban)法,这蚀(shi)刻(ke)(ke)具体(ti)办(ban)法在电(dian)缆线板生(sheng)产(chan)具体(ti)办(ban)法中(zhong)应该用越来越多(duo),特别是几何体(ti)真空电(dian)镀,那就是很不错的(de)蚀(shi)刻(ke)(ke)具体(ti)办(ban)法最为(wei)。另外是是碱性的(de)的(de)蚀(shi)刻(ke)(ke)转速(su)快(kuai),侧蚀(shi)刻(ke)(ke)小,溶铜(tong)量(liang)大,蚀(shi)刻(ke)(ke)液能够粉碎多(duo)次选(xuan)择(ze)。

碱CuCl2蚀刻液其主要是由CuCl2和NH3-H2O形成,在CuCl2盐溶液内(nei)加(jia)入NH3-H2O会有(you)下述络合的反(fan)应(ying):CuCl2+4NH3-H2O=[Cu(NH3)4]Cl2+4H2O,在药柜内,铜被[Cu(NH3)4]2+络(luo)阳离子(zi)氧(yang)化(hua)(hua)的(de)成Cu+。其(qi)被氧(yang)化(hua)(hua)想法下(xia)面:[Cu(NH3)4]Cl2+Cu=2[Cu(NH3)2]Cl。自(zi)动生成的(de)[Cu(NH3)2]+为Cu+的(de)络(luo)阴离子(zi),不有(you)着钝(dun)化(hua)(hua)学习(xi)能力,在有(you)量(liang)NH3-H2O和Cl-存在的(de)的(de)基(ji)本(ben)前(qian)提下(xia),能更慢被暖(nuan)空气中(zhong)的(de)供氧(yang)所钝(dun)化(hua)(hua),出产包括蚀刻意识的(de)[Cu(NH3)4]2+。其(qi)络(luo)正离子(zi)重(zhong)复不良反应相(xiang)应:

2[Cu(NH3)2]Cl+2NH4Cl+2NH3-H2O+1/2O2=2[Cu(NH3)4]Cl2+2H2O。

从后面的普通机械式子式应该分辨出,在鑫恒力办(ban)公全过程中(zhong),每(mei)浸蚀(shi)(shi)1mol铜(tong)要有(you)耗费2mol NH3-H2O和2mol NH4Cl。所(suo)以在(zai)侵蚀(shi)(shi)机蚀(shi)(shi)刻(ke)全过程中(zhong),发生变化铜(tong)的融掉,应不息提供NH3-H2O和NH4Cl。

在鑫恒力典型的含碱正空中,盐溶液Cu2+溶液浓(nong)度(du)(du)、PH值、NH4Cl浓(nong)硫酸浓(nong)度(du)(du)、NH3-H2O盐浓(nong)度(du)(du)或是湿(shi)度(du)(du)都导致到蚀(shi)刻利用(yong)率(lv)。正(zheng)确掌握哪些基(ji)本要素的(de)导致才能够有效(xiao)的(de)的(de)的(de)控(kong)制(zhi)盐溶液,使之始(shi)终维持(chi)平(ping)衡(heng)稳(wen)定的(de)绝佳蚀(shi)刻心态(tai),然而(er)取得(de)满意率(lv)的(de)蚀(shi)刻的(de)质量。采用(yong)鑫(xin)恒力多年以(yi)的(de)实现成(cheng)就,测得(de)下(xia)列结论(lun)怎么(me)写,只提(ti)供(gong)给(ji)大家选取:

(1)Cu2+溶度(du)(du)对蚀(shi)刻(ke)流速的的影(ying)响:在(zai)此(ci)种蚀(shi)刻(ke)液中(zhong),Cu2+是硫化(hua)剂,,因此(ci)Cu2+的浓度(du)(du)值对的蚀(shi)(shi)刻网络速(su)度(du)的影响到占(zhan)据(ju)为重要的因(yin)素。现实情况技术(shu) 暗示(shi)我们公(gong)司,Cu2+酸度(du)在0g/L~82.5g/L时,蚀(shi)(shi)刻效率太慢(man);在82.5g/L~135g/L时蚀(shi)(shi)刻流速(su)较低,且调节艰难;在135g/L~165g/L时,蚀(shi)(shi)刻线速(su)度(du)高且硫酸铜(tong)溶液维持;在165g/L~225g/L时,盐溶液不安稳,趋(qu)近于会产(chan)生石雕文(wen)化沉淀(dian)。

(2)蚀(shi)(shi)(shi)刻液(ye)中PH值对蚀(shi)(shi)(shi)刻极(ji)限(xian)速度(du)的反(fan)应:蚀(shi)(shi)(shi)刻液(ye)PH值应实现在8~8.8范围内,当PH<8时,一立(li)正确对待复合抗蚀(shi)(shi)(shi)层(ceng)不好的,另一类立(li)面,蚀(shi)(shi)(shi)刻液(ye)中的铜难以(yi)非常络生成(cheng)铜氨络正离(li)子,药液(ye)出現奠定,发生蚀(shi)(shi)(shi)刻有(you)难度(du)。如果你药液(ye)PH值过高(gao),蚀(shi)(shi)(shi)刻液(ye)中氨过达(da)到(dao)饱和状(zhuang)态,游离(li)子氨降低到(dao)典雅中,造成(cheng)的对条件的污(wu)染破坏,还药液(ye)PH值的过高(gao)也(ye)会变大侧(ce)蚀(shi)(shi)(shi)量,得以(yi)作用到(dao)蚀(shi)(shi)(shi)刻精(jing)确。

(3)NH4Cl酸度对蚀刻的(de)损害:从盐溶液(ye)粉(fen)碎的(de)普通机械反映式能否判断(duan)出,[Cu(NH3)2]-的(de)再生利用期间(jian)需用产(chan)生大(da)量(liang)的(de)NH3-H2O和NH4Cl的(de)存有(you),如(ru)果药液存在NH4Cl,将使[Cu(NH3)2]-得不倒回收,蚀刻线速度(du)可能会(hui)(hui)拉低,甚而失蚀刻实力(li)。那么,NH4Cl的含氧(yang)量对蚀刻加速度(du)影响力(li)较(jiao)大。有时(shi)候,氢氧(yang)化钠溶液中Cl-分子量过高会(hui)(hui)促(cu)使抗(kang)蚀层(ceng)腐蚀,一般来说氨水浓度(du)把(ba)握在150g/L前后为(wei)宜。

(4)高(gao)(gao)温(wen)对蚀(shi)刻的速(su)(su)度(du)(du)的不(bu)良影(ying)(ying)响:当蚀(shi)刻高(gao)(gao)温(wen)降至40℃时,蚀(shi)刻转速(su)(su)超慢,而蚀(shi)刻浓度(du)(du)过慢会变高(gao)(gao)侧(ce)蚀(shi)量(liang),影(ying)(ying)向蚀(shi)刻精度(du)(du)等级。高(gao)(gao)温(wen)远(yuan)远(yuan)超出60℃,蚀(shi)刻效(xiao)率(lv)特别加快速(su)(su)度(du)(du),但(dan)氨的发(fa)挥量(liang)也有很大的加入,以至于(yu)坏境弄脏的同样使饱和溶液中耐腐蚀(shi)组成身材(cai)比例失(shi)调(diao)症(zheng),故一样事情温差管控在(zai)45℃~55℃为宜。

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